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 二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺制备成的一种低金属离子高纯度CMP抛光产品。 硅溶胶抛光液是以液体形式存在，直径为10-150nm的二氧化硅粒子（分散相）在水或有机液体（分散介质）里的分散体系，粒子的形貌多为球形，适用于各类工件的镜面抛光，如金属、蓝宝石衬底、半导体、光学玻璃、精密电子元器件等的镜面抛光。
本质上讲二氧化硅抛光液、硅溶胶抛光液都是一种东西，主要成分都是SiO₂只是叫法不同。在CMP研磨抛光工艺中，机器通过压力泵把氧化硅抛光液输送到抛光槽内进行循环使用，通过抛光垫和抛光液相互摩擦作用达到平坦化表面。目前提纯工艺的提升和制备技术的改进，纳米硅溶胶抛光液广泛用于半导体多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、Oxide氧化层抛光、精密光学器件等。改性硅溶胶的应用领域也涵盖了化工、医药、电子、材料等多个领域。例如，制备光子晶体、电容器等电子器件，开发高性能的纳米新材料等。
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